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泰勒霍普森白光干涉儀CCI信息

點(diǎn)擊次數(shù)：284 更新時(shí)間：2026-01-13

CCI HD：適配制造與研究領(lǐng)域的高精度膜厚測(cè)量方案

CCI HD 是非接觸式光學(xué) 3D 輪廓儀，具備精準(zhǔn)測(cè)量薄膜與厚膜的核心能力。其采用關(guān)聯(lián)算法，可精準(zhǔn)定位由精密光學(xué)掃描裝置生成的干涉圖相干峰與相位；整合非接觸式尺寸測(cè)量技術(shù)與優(yōu)異的厚薄膜測(cè)量方案，除提供尺寸、粗糙度測(cè)量功能外，還可實(shí)現(xiàn)兩種類型的膜厚測(cè)量。

近年來(lái)，厚膜分析已廣泛應(yīng)用于厚度約 1.5 微米的半透明涂料研究，實(shí)際測(cè)量厚度上限取決于材料折射率與標(biāo)的物數(shù)值孔徑（NA）。相對(duì)而言，薄涂層測(cè)量難度更高，而通過(guò)干涉測(cè)量法，現(xiàn)已可實(shí)現(xiàn)厚度低至 50 納米的薄涂層研究（測(cè)量上限同樣取決于材料折射率）。借助該新型測(cè)量方法，可在單次測(cè)量中同步獲取膜厚、界面粗糙度、針孔缺陷及薄涂層表面剝離等關(guān)鍵特性參數(shù)。

泰勒·霍普森 CCI HD 非接觸式白光干涉輪廓儀核心優(yōu)勢(shì)參數(shù)：

2048×2048 像素陣列，兼具寬廣視場(chǎng)與高分辨率
全量程 0.1 埃超高分辨率
適配 0.3% - 100% 全范圍表面反射率測(cè)量
重復(fù)性優(yōu)異：<0.2 埃 RMS 重復(fù)性，<0.1％臺(tái)階高度重復(fù)性
搭載多語(yǔ)言版本 64 位控制與分析軟件，操作便捷
2.2 mm 垂直測(cè)量范圍，配備閉環(huán)無(wú)壓電 Z 軸掃描儀
標(biāo)準(zhǔn)配置 AutoStitch 功能，可實(shí)現(xiàn)大型零件的高分辨率測(cè)量

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CCI HD：適配制造與研究領(lǐng)域的高精度膜厚測(cè)量方案

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